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合金靶材

2020-06-12 15:13瀏覽數:70
蒂姆(北京)新材料科技有限公司可提供多種成分、多種尺寸、多種合金靶材。
常用參數:
靶材純度:99.99%
制備工藝:真空熔煉、粉末冶金等
靶材形態:平面靶、多弧靶、臺階靶、異形靶
圓靶尺寸:φ25.4*3mm、φ50*3mm、φ50.8*4mm、φ60*3mm、φ76.2*3mm、φ80*4mm、φ101.6*5mm、φ152.4*6mm 尺寸可定制
方靶尺寸:50*50*3mm、100*100*4mm、300*300*5mm 尺寸可定制
綁定服務:靶材亦可提供銅背靶銦焊綁定服務,提高陶瓷靶材導電導熱性,提高使用效率

包裝方式:真空包裝


化學式品名純度(%)常用比例適用設備
WTa鎢鉭合金 靶材3N5W:Ta=95:5 wt%磁控濺射設備
TiSi鈦硅合金 靶材3NTi:Si=1:2 at%磁控濺射設備
TiW鈦鎢合金 靶材2N5,4NW:Ti=90:10 wt%磁控濺射設備
TiNiAg鈦鎳銀合金 靶材3NTi:Ni:Ag=70:20:10 at%磁控濺射設備
AlSiY鋁硅釔合金 靶材3NAl:Si:Y=94.3:4.5:1.2 wt%磁控濺射設備
AlLi鋁鋰合金 靶材3N5Al:Li=95:5 wt%磁控濺射設備
CrAl鋁鉻合金 靶材2N5Cr:Al=80:20 at%磁控濺射設備
NiCr鎳鉻合金 靶材3NNi:Cr=80:20 wt%磁控濺射設備
FeGa鐵鎵合金 靶材3NFe:Ga=83:17 wt%磁控濺射設備
FeTe鐵鎵合金 靶材2N5Fe:Te=3:2 at%磁控濺射設備
CoTe鈷碲合金 靶材2N5Co:Te=3:2 at%磁控濺射設備
CuZr銅鋯合金 靶材2N5Cu:Zr=1:1 at%磁控濺射設備
CuZr銅鋯合金 靶材2N5Cu:Zr=1:2 at%磁控濺射設備
CuNi銅鎳合金 靶材2N5Cu:Ni=85:15 at%磁控濺射設備
CuNi銅鎳合金 靶材3N5Cu:Ni=50:50 at%磁控濺射設備
CuNiIn銅鎳銦合金 靶材3N5Cu:Ni:In=59:36:5 wt%磁控濺射設備
CuAl銅鋁合金 靶材4NCu:Al=95:5 at%磁控濺射設備
CuAl銅鋁合金 靶材4NCu:Al=84:16 at%磁控濺射設備
SiCo硅鈷合金 靶材2N5Si:Co=1:1 at%磁控濺射設備
SiZr硅鋯合金 靶材2N5Si:Zr=1:1 at%磁控濺射設備
SiNi硅鎳合金 靶材2N5Si:Ni=1:1 at%磁控濺射設備
ZrAg鋯銀合金 靶材2N5Zr:Ag=95:5 at%磁控濺射設備
SnAgBi錫銀鉍合金 靶材3N5Sn:Ag:Bi=64:1:35 at%磁控濺射設備
NiCr鎳鉻合金 靶材4NNi:Cr=1:1 at%磁控濺射設備
NiAl鎳鋁合金 靶材2N5Ni:Al=1:1 at%磁控濺射設備
NiSi鎳硅合金 靶材2N7Ni:Si=1:1 at%磁控濺射設備
NiNb鎳鈮合金 靶材3N5Ni:Nb=60:40 at%磁控濺射設備
NiFe鎳鐵合金 靶材4NNi:Fe=81:19 wt%磁控濺射設備
MnCoNi錳鈷鎳合金 靶材2N5Mn:Co:Ni=1.56:0.96:0.48 at%磁控濺射設備
LA141LA141合金 靶材3NMg:Al:Li=85:1:14 wt%磁控濺射設備
MgCeNi鎂鈰鎳合金 靶材2N5Mg:Ce:Ni=80:10:10 at%磁控濺射設備
MnCoNiCuCa錳鈷鎳銅鈣合金 靶材2N5Mn:Co:Ni:Cu:Ca=1.36:0.86:0.48:0.2:0.1 at%磁控濺射設備
Ti-54Al-14Cr-1.0Y鈦鋁鉻釔合金 靶材2N7Ti:Al:Cr:Y=31:54:14:1 at%磁控濺射設備
Ti-54Al-14Cr-1.0Hf鈦鋁鉻鉿合金 靶材2N7Ti:Al:Cr:Hf=31:54:14:1 at%磁控濺射設備
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