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化合物顆粒

2020-06-18 17:55瀏覽數:23
蒂姆(北京)新材料科技有限公司可提供多種成分、多種尺寸、多種化合物顆粒。
常用參數:
種類:氧化物、氟化物、碳化物、硫化物、碲化物、硒化物等
顆粒純度:99.5%、99.9%、99.99%、99.99%
制備工藝:真空燒結、晶體破碎等
顆粒形態:圓柱形顆粒、紐扣狀顆粒、不規則顆粒、類球形顆粒等
常規尺寸: 1-3mm,1-6mm,1-20mm,5*5*5mm,φ9*5mm,φ25*10mm等尺寸可定制
包裝方式:真空包裝

常規包裝:100g,500g,1kg,10kg等


化學式品名純度(%)常規尺寸用途
Al2O3氧化鋁 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
CdS硫化鎘 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
Ce2O3氧化鈰 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
Cr2O3氧化鉻 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
MgO氧化鎂 顆粒4N5*5*5mm蒸發鍍膜
NiO氧化鎳 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
Y2O3氧化釔 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
HfO2氧化鉿 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
SnO2氧化錫 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
ZnO氧化鋅 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
ZrO2二氧化鋯 顆粒4Nφ25*14mm蒸發鍍膜
WO3三氧化鎢 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
TiO2二氧化鈦 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
MoO3三氧化鉬 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
Ti3O5五氧化三鈦 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
Ta2O5五氧化二鉭 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
Nb2O5五氧化二鈮 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
SiO一氧化硅 晶體顆粒4N0.5-5mm蒸發鍍膜
SiO2二氧化硅 晶體顆粒4N,5N1-3mm蒸發鍍膜
AZOAZO 顆粒(98:2 wt%)4N1-3mm蒸發鍍膜
ITOITO 顆粒(90:10wt%)4N1-3mm蒸發鍍膜
ITOITO 顆粒(95:5 wt%)4Nφ25*10mm蒸發鍍膜
BC碳化硼 顆粒2N53-5mm蒸發鍍膜
TiC碳化鈦 顆粒2N53-5mm蒸發鍍膜
CeF3氟化鈰 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
MgF2氟化鎂 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
CaF2氟化鈣 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
MgF2氟化鋰 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
YbF3氟化鐿 顆粒4N0.2-4mm蒸發鍍膜
CaF2氟化鈣 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
ZnS硫化鋅 晶體顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
SnS2硫化亞錫 顆粒3N1-3mm蒸發鍍膜
SnS硫化錫 顆粒5N1-20mm蒸發鍍膜
CdTe碲化鎘 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
SnTe碲化錫 顆粒5N1-20mm蒸發鍍膜
ZnSe硒化鋅 晶體顆粒4N,5N1-3mm蒸發鍍膜
CdSe硒化鎘 顆粒4N1-3mm蒸發鍍膜
SnSe硒化錫 顆粒5N1-20mm蒸發鍍膜
InSe硒化銦 顆粒4N1-6mm蒸發鍍膜
In2Se3硒化銦 顆粒4N1-6mm蒸發鍍膜


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