碳化鉬靶材,適用于濺射鍍膜領域,是航天、航空等高科技領域以及汽車制造業不可缺少的關鍵材料,在半導體芯片、MEMS傳感器、光電器件、寬禁帶半導體、石墨烯等行業領域應用廣泛。
一、主要用途
適用于磁控濺射制備薄膜
二、適用領域
1、適用濺射設備品牌:
A.適用設備:單靶濺射系統,雙靶濺射系統,JC500型磁控濺射儀,DE300DL 磁控濺射系統
B.適用設備品牌:國產品牌:南光機器廠、北京儀器廠、金盛微納、沈陽科儀、JK-LASKER、微電子所等品牌
進口品牌:美國MRC,CVC、Varian公司等品牌
2、常規尺寸:
1.直徑:1英寸,2英寸,3英寸,4英寸,5英寸等不同直徑
2.厚度:1mm,2mm,3mm,4mm等尺寸可定做
三、產品詳情及價格:
貨號 | 產品名稱 | 規格 | 包裝 | 數量 | 單價 | 交期 |
Mo2C-T2524 | 碳化鉬 靶材(Mo2C) | 99.5% φ50.8*4mm | 片 | 1 |
| 10-12個工作日 |
注:以上均為含稅含運費價格,13%增值稅發票,發票隨貨寄。 更多規格、更多型號產品,可咨詢客服電話010-56073481。 微信:13141167362 18201317600 QQ:1401752372 2031869415 |
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