碳化鉬靶材，適用于濺射鍍膜領域，是航天、航空等高科技領域以及汽車制造業不可缺少的關鍵材料，在半導體芯片、MEMS傳感器、光電器件、寬禁帶半導體、石墨烯等行業領域應用廣泛。
一、主要用途
適用于磁控濺射制備薄膜
二、適用領域
1、適用濺射設備品牌：
A.適用設備：單靶濺射系統，雙靶濺射系統，JC500型磁控濺射儀，DE300DL 磁控濺射系統
B.適用設備品牌：國產品牌：南光機器廠、北京儀器廠、金盛微納、沈陽科儀、JK-LASKER、微電子所等品牌
進口品牌：美國MRC，CVC、Varian公司等品牌
2、常規尺寸：
1.直徑：1英寸，2英寸，3英寸，4英寸，5英寸等不同直徑
2.厚度：1mm,2mm，3mm，4mm等尺寸可定做
三、產品詳情及價格：
| 貨號 | 產品名稱 | 規格 | 包裝 | 數量 | 單價 | 交期 |
| Mo2C-T2524 | 碳化鉬 靶材(Mo2C) | 99.5% φ50.8*4mm | 片 | 1 |
| 10-12個工作日 |
注：以上均為含稅含運費價格，13%增值稅發票，發票隨貨寄。
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